第2084章 沉浸式光刻理论 (第2/2页)

把这家不知道天高地厚，谁才是你得主子的小东阳的光刻机企业打垮，打的资不抵债的破产清盘机器都当破烂卖。
　　
　　这样他们身为主子，看到不老实，眼睛里面没有一点的水儿，胆敢不识趣的想要在科技上超过主人的奴才倒霉，他们才会高兴的以舒心中块垒。
　　
　　于是在老m钱针引线的主导下，西门子旗下一家成立了将近二十年，里面总共只有31个员工的合资小公司ASML，则被老m看中了，推出来站台。
　　
　　集结大量欧美顶尖科研高校和一流半导体企业的力量，全力支持ASML研发新一代193nm制程以下的光刻机，去干翻不长眼的奴才。
　　
　　在这个世界上的00年的十月，光刻机的光源波长依然被卡死在193nm已经有好几年。
　　
　　尼康主张用在前代技术的基础上，采用157nm的F2激光，走稳健道路。
　　
　　而这一选择，其实有着很强烈的极限终极的意味，因为即使尼康成功的研发了157nm制程的F2激光光刻机，那么18到24个月以后呢，怎么还能研发这一类激光源已经到了极限的157nm制程天堑以下的光刻机？
　　
　　新生的EUVLLC联盟则押注更激进的极紫外技术，在对未来的展望是用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。
　　
　　也就是说，ASML现在正在研发的193nm制程以下的光刻机，使用极紫外技术，是光刻机领域一个新的征程的起点。
　　
　　正在做着从零到一，从虚无到实质的尝试性跃迁。
　　
　　假如能够成功，那么再从一到二，从二到三，则是顺理成章的依次类推递进。
　　
　　而尼康想要研发的157nmF2激光光刻机，则是一个垂垂老矣回光返照式的最后的荣光尊严和骄傲，之后则要面对着157nm制程的极限天堑无法跨越，则是注定被扫进时光的垃圾桶里面。
　　
　　这里面按道理孰优孰劣，已经是一目了然。
　　
　　但是尼康所要做的事情，有着很大的成功性，然而ASML集中数百亿资金押注极紫外光，无异于是一场世纪豪赌。
　　
　　赢了大家都去会所嫩模，输了都去砖窑搬砖下苦力，虽然两者干的都是体力活，然而一个是男人的天堂，一个是男人的炼狱。
　　
　　在赵长安的这个时代，历史上的一些微小细节还是和他记忆中的前一世有着细微的差别。
　　
　　那个在赵长安的那个时空里面，拿着自己的那一套‘沉浸式光刻’理论，跑遍世界一流的光刻机企业的林博士，在这个时空却因为突然发了财，又遇到了自己的真爱，整天享受着快乐的夫妻生活，根本就没有想到这个方法。
　　
　　假如想要降低光的波长，光源出发是根本方法，水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的天堑，降低到132nm？
　　
　　也就是说，现在在这个世界上，只有赵长安一人知道这个‘沉浸式光刻理论’！
　　
　　(本章完)